立體字，利用素材合成草堆效果的立體字

11.創(chuàng)建一個(gè)新圖層，命名為“sun blast”。在“Extrusion base”處，創(chuàng)建剪貼蒙版，＃AD8144，在字母的兩側(cè)畫(huà)。注意透明度。

12.這時(shí)候添加高光，給Sun blast添加蒙版，然后畫(huà)筆降低透明度，流量，在蒙版處擦拭，效果如圖所示。

13.改變混合模式[1]，柔光。

第46步

.添加額外的陰影上的字母

1.創(chuàng)建一個(gè)新層在“S end”層之上，并稱之為“S SH”。創(chuàng)建剪貼蒙版。改變其模式為正片疊底，繪制更柔和的陰影。

2.添加另一個(gè)圖層，命名為“S SH dark”，并改變其混合模式為正片疊底。較深的棕色，繪制陰影，如圖。

3.現(xiàn)在創(chuàng)建一個(gè)圖層”Shadow Low”在”Front base”之上，正片疊底，并繪制陰影。

4.新建，命名”T Sh”，正片疊底，多邊形套索（L）。

5.如圖，畫(huà)出陰影。注意，陰影的深度，分三次畫(huà)出來(lái)，最深，深，較淺。

6.創(chuàng)建另一個(gè)陰影層“S SH”設(shè)置為正片疊底，使與選擇多邊形套索（L），繪制步驟同上。別忘了剪切蒙版。

7.創(chuàng)建另一個(gè)陰影層“S Sh”，剪切蒙版，如圖做出選區(qū)。用棕色的填充。

8.將選區(qū)，去濾鏡>模糊>高斯模糊，并設(shè)置其半徑為4.8像素。

9.設(shè)置該圖層的混合模式為正片疊底。

10.添加另一層“S SH top”設(shè)置為正片疊底，邊形套索（L），畫(huà)影子。

11.添加另一層“V SH”設(shè)置的正片疊底，畫(huà)出影子。

12.同理，給R添加陰影，命名為“R SH”

13.添加圖層“A SH”，同理，繪制陰影，如圖

14.添加另一層“H SH”，同理。